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天津HiPIMS，低溫ITO沉積的機(jī)會(huì)！
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產(chǎn)品及解決方案
應(yīng)用案例
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關(guān)于新鉑
新鉑科技（東莞）有限公司成立于2020 年底，是新鉑科技的主要生產(chǎn)基地，具有4條組裝生產(chǎn)線和5條檢測(cè)調(diào)試線，廠房面積2000+，現(xiàn)有員工20+。是國(guó)內(nèi)專業(yè)從事真空鍍膜系統(tǒng)的研發(fā)、制造、銷售為一體的國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè)。其研發(fā)中心位于東莞市松山湖大學(xué)創(chuàng)新城，其研發(fā)人員均為碩士以上學(xué)歷（其中博士6人），在相關(guān)領(lǐng)域發(fā)表學(xué)術(shù)論文300余篇。
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60%
研發(fā)人員占比
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300+
發(fā)布學(xué)術(shù)論文
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4.5星級(jí)
客戶好評(píng)
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50+個(gè)
課題合作研發(fā)
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20+個(gè)
定制開發(fā)項(xiàng)目
企業(yè)榮譽(yù)
新聞中心
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天津磁控濺射有哪些種類?不同種類的工作原理是什么?
磁控濺射作為一種物理 氣相沉積（PVD）技術(shù)，在材料科學(xué)與工程領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。它通過結(jié)合電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用，提高了濺射過程中的粒子利用率和沉積效率。磁控濺射可以根據(jù)不同的分類標(biāo)準(zhǔn)分為多種類型，每種類型都有其獨(dú)特的工作原理和適用范圍。以下是一些常見的磁控濺射種類及其工作原理概述：...
- 2024-07-26 10:21:43 | →
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天津點(diǎn)擊關(guān)注，了解最前沿的真空應(yīng)用技術(shù)，跟隨新鉑科技走向未來！
在展示區(qū)展出了新鉑等離子體鍍膜工藝成品與電源設(shè)備，讓參展的嘉賓與展商皆感嘆新鉑科技在真空應(yīng)用領(lǐng)域技術(shù)實(shí)力！...
- 2023-08-19 09:21:58 | →
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天津新鉑科技參加2023國(guó)際新材料展
2023年6月27-29日，在深圳國(guó)際會(huì)展中心20號(hào)館舉辦了2023國(guó)際新材料展(MATERIALS.CN)...
- 2023-06-30 13:45:56 | →
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天津真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)的區(qū)別
真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù)。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面（目標(biāo)），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。...
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天津真空鍍膜技術(shù)中，薄膜厚度的測(cè)量和控制是如何實(shí)現(xiàn)的？
這是一種常用的測(cè)量方法。其原理是基于光的干涉現(xiàn)象。當(dāng)一束光照射到薄膜表面時(shí)，部分光被反射，部分光透過薄膜在基底和薄膜的界面再次反射，這兩束反射光會(huì)發(fā)生干涉。通過檢測(cè)干涉條紋的變化來確定薄膜的厚度。...
- 2024-12-04 15:33:37 | →
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天津如何控制和優(yōu)化真空鍍膜參數(shù)以獲得較佳的效果
蒸發(fā)源溫度是關(guān)鍵參數(shù)。對(duì)于不同的鍍膜材料，有其特定的蒸發(fā)溫度范圍。如蒸發(fā)金屬鋁，溫度一般在1200-1400℃。通過溫度傳感器和反饋控制系統(tǒng)，如熱電偶結(jié)合PID控制器，能控制溫度。溫度過高可能導(dǎo)致材料過度蒸發(fā)，...
- 2024-11-28 11:28:09 | →
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天津真空鍍膜過程中，材料是如何從源轉(zhuǎn)移到基底上的
在蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中，首先將鍍膜材料加熱到足夠高的溫度，使其原子或分子獲得足夠的能量克服表面能，從固態(tài)或液態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)。這個(gè)過程通常在真空環(huán)境下的蒸發(fā)源中進(jìn)行。例如，對(duì)于金屬材料如鋁，通過電阻加熱、電子束加熱等方式使鋁原子從蒸發(fā)源的固體表面逸出。...
- 2024-11-28 10:14:36 | →
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天津PECVD的關(guān)鍵工藝參數(shù)包括哪些，它們?nèi)绾斡绊懕∧さ奶匦裕?/a>
PECVD（等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）的關(guān)鍵工藝參數(shù)包括以下幾個(gè)方面：...
- 2024-11-20 15:14:31 | →
天津管道結(jié)垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展！
在石油行業(yè)，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產(chǎn)效率提高10%~15%。然而，隨著石油產(chǎn)量的增加，也面臨著更多的挑戰(zhàn)，管道腐蝕是其中之一。對(duì)于二氧化碳增強(qiáng)采收率（EOR）技術(shù)，生產(chǎn)油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化，...
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天津真空鍍膜技術(shù)如何實(shí)現(xiàn)多層膜的沉積
真空鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)多層膜的沉積主要通過以下幾種方式： 一、交替沉積法...
- 2024-10-31 10:29:45 | →
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天津真空鍍膜的附著力探討
一般來說，真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因?yàn)樵谡婵窄h(huán)境下，鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜減少了雜質(zhì)和氧化的影響，從而有利于提高鍍膜與基材之間的結(jié)合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
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天津HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎
HiPIMS（高功率脈沖磁控濺射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術(shù)，它利用高頻脈沖電源產(chǎn)生的高密度等離子體來進(jìn)行材料的濺射沉積。相較于傳統(tǒng)的直流磁控濺射（DCMS），HiPIMS技術(shù)具有更高的離子化率、更好的薄膜質(zhì)量以及更均勻的薄膜厚度等優(yōu)點(diǎn)。因此，HiPIMS技術(shù)在薄膜沉積領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，尤其是在制備高質(zhì)量、高性能薄膜材料方面表現(xiàn)突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →
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天津HIPiMS技術(shù)在沉積過程中如何控制薄膜的微觀結(jié)構(gòu)
HIPiMS技術(shù)的核心是使用高功率脈沖放電，這導(dǎo)致了等離子體密度和離子化率的顯著提高。通過調(diào)整脈沖峰值功率，可以改變?yōu)R射粒子的能量分布。較高的功率通常會(huì)導(dǎo)致更高的離子化率，從而影響薄膜的致密度和附著力。...
- 2024-09-25 15:29:36 | →